先进电子专用设备研究中心

先进电子专用设备研究中心

       浙江大学昆山先进电子专用设备研究中心依托浙江大学信息与电子工程学院,以“先进磁控溅射”为核心技术,研发新一代先进电子元器件的材料、工艺,以及专用装备。中心积极响应《中国制造2025》政策,以“实现中国电子元件的绿色制造”为使命和战略方向,以创新驱动、质量为先为准则,成功研发了一系列电子元件磁控溅射绿色金属化工艺及大规模生产线装备,替代了污染严重、能耗高、且具安全隐患的电镀、丝印烧结、粉末喷铝等传统工艺,在热敏、压敏、铁氧体、石英等多个电子元器件行业实现了绿色制造及产品高端化。中心孵化企业1家,与昆山企业共建研发中心1个,相关技术获国家及部省级等奖励13次,授权国家发明专利15项。

研发团队:

       研究中心主任为浙江大学信息与电子工程学院王德苗教授。

       研究中心在职人员12人,其中姑苏双创人才1人。

团队合影

研发方向:

电子元件绿色金属化工艺及专用装备;

半导体制造工艺与装备;

薄膜太阳能电池、高效LED散热、ITO透明导电薄膜、精细柔性电路板技术;

       FBAR/QCM、SAW等物联网、机器人智能传感器技术。

研发平台:

       中心围绕以磁控溅射为核心的新一代先进电子元器件材料、工艺,以及专用装备的研发,建立了“ZnO压敏陶瓷溅射金属化中试平台”、“双靶位柱形磁控溅射源实验平台”、“研发用机械加工平台”,配置了先进的“亚纳米级微细形状测定仪”、“复合频率超声波清洗系统”,以及“高纯去离子水系统”等仪器和设施,形成良好的研究、开发、测试、以及产业化中试环境,较好地为昆山及江苏的相关电子元件制造产业提供研发、测试服务。

1ZnO压敏陶瓷溅射金属化中试平台

       主要服务于敏感陶瓷等电子元件制造企业,可提供新一代磁控溅射电极制备工艺的材料、膜系结构、电气性能、可靠性、以及小批量中试服务。ZnO压敏电阻器因具有优良的非线性特性以及卓越的耐浪涌能力而被广泛应用于电力系统、电子线路、微电子线路的过电压保护之中,是目前应用最成功、市场份额最大的电子陶瓷元器件之一,而昆山则是ZnO压敏电阻器的主要产地。基于该平台上的反复试验以及大量数据积累,中心与昆山万丰电子、苏州求是真空三方成功合作开发了国际首创的ZnO压敏电阻贱金属磁控溅射金属化工艺及专用设备,并实现了产业化,产品已获业内的一致赞誉和广泛认可,引领了产业革新。基于此,中心与万丰电子达成长期战略合作联盟,共建了“浙大昆山万丰先进电子元件研发中心”,以期共同推动我国电子元件制造业的绿色制造和产品高端化。

ZnO压敏陶瓷溅射金属化中试平台

2)双靶位柱形磁控溅射源实验平台

        主要服务于大面积磁控溅射真空镀膜系统中的核心部件“圆柱形磁控溅射源”的研究、试验及优化。采用大面积的磁控溅射真空镀膜系统取代传统落后并污染严重的电镀、丝印烧结等工艺,对电子元件实现绿色电极制备,是国内外电子元件制造业的发展趋势。圆柱形磁控溅射源则是磁控溅射真空镀膜系统中最为核心的部件,其性能好坏直接影响到电极薄膜的性能、良率,以及制造成本。基于本平台提供的优良环境,中心研发了新型的窄等离子轨道高速率高均匀性柱型磁控溅射源,并服务于常州兴勤电子、苏州康普来等企业。其中与苏州康普来合作研发的4G/5G无线通信基站腔体滤波器绿色制造技术已取得突破性进展,有望在近期内形成产业化并引领行业的技术革新。

双靶位柱形磁控溅射源实验平台

3)亚纳米级微细形状测定仪

       主要服务于电子薄膜材料与器件的工艺及可靠性研究,可用于薄膜材料的厚度测定、材料基底以及薄膜表面的粗糙度测定、薄膜的应力测定等。仪器采用半径2 μm的钻石触针,测定力 1-50 mg,线性精度±0.25%,厚度方向分解能力 ≤ 0.1 nm,再现性1σ≤0.2 nm。

亚纳米级微细形状测定仪

4)复合频率超声波清洗系统

       主要用于电子元件镀膜前的表面清洗,具有28、40、68 kHz三种不同频率的超声波发生器,可进行鼓泡、翻滚、加热等全自动操作。“研发用机械加工平台”主要用于小型真空零部件的加工和试验,可进行车、铣加工。“高纯去离子水系统”主要用于高纯去离子水的产生,配套于电子元件镀膜前的清洗。

复合频率超声波清洗系统